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每经AI快讯,光刻时刻是鞭策集成电路芯片制程工艺合手续微缩的中枢驱能源之一。近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳陶冶团队及互助者通过冷冻电子断层扫描时刻,初次在原位景况下理会了光刻胶分子在液相环境中的微不雅三维结构、界面漫衍与缠结四肢,指示缔造出可显赫减少光刻颓势的产业化有盘算。关连论文近日刊发于《当然·通信》。
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